講演会
category
第141回講演会
主題
『日本発SOI技術 ”SIMOX”の到達点』
講演スケジュール
講演1. |
「SIMOX技術総論-開発小史と今後の動向-」 大阪府立大学 先端科学研究所 泉 勝俊 |
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講演2. |
「ITOX-SIMOXウェーハ技術における最近の進展」 新日本製鐵㈱ 先端技術研究所 松村 篤樹 |
講演3. |
「低ドーズSIMOXにおける酸素析出の制御」 NEC シリコンシステム研究所 小椋 厚志 |
講演4. |
「Sub-1V MTCMOS/SIMOX回路技術」 NTT 通信エネルギー研究所 道関 隆国 |
日時 | 平成11年7月30日(金)13:00~ 17 : 00 |
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場所 |
大阪府立大学学術交流会館 |
参加費 | 当会会員・学生無料、一般1000円 (当日参加可) |
お問合せ
世話人 |
大阪府立大学 先端科学研究所 泉 勝俊 |
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お問合せ先 | ニュー・フロンティア材料研究会 〒599-8531 堺市中区学園町1-1 (公立大学法人 大阪府立大学大学院 工学研究科 電子・数物系専攻電子物理工学分野 内藤研究室内) Tel: 090-4293-4866 Fax:072-254-9266 E-mail:new-f[at]riast.osakafu-u.ac.jp [at]を@に換えてご送信ください。 |